今天，中國光谷官方公眾號宣佈，光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現了巨大突破。
根據官方介紹，武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻製造新局面。
據悉，T150 A對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列，在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜後烘留膜率優秀，其對後道刻蝕工藝表現更為友好。
此外，通過驗證發現，T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。
對此，太紫微公司企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示：
“以原材料的開發為起點，最終獲得具有自主知識產權的配方技術，這只是個開始，我們團隊還會發展一系列應用於不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內相關產業帶來更多驚喜。”
來源：安兔兔
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